![Jak na přijímačky](https://cdn.muni.cz/media/3633702/image_1.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Antireflexní vrstva z materiálů HfO2/SiO2 pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 2014 |
Druh | Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Popis | *Vícenásobná antireflexní vrstva z materiálů HfO2/SiO2 pro hlubokou ultrafialovou (DUV) oblast spektra na vlnové délce 266nm |
Související projekty: |