Informace o publikaci
X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers
| Autoři | |
|---|---|
| Rok publikování | 1993 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Thin Solid Films |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | X-ray diffraction and reflectance; raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers |
| Popis | X-ray diffraction and reflectance, raman scattering and photoluminiscence characterization of thermally annealed epitaxial Si 1-x Ge x layers |
| Související projekty: |