![Jak na přijímačky](https://cdn.muni.cz/media/3633702/image_1.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Antireflexní vrstva na substrátu ve specifikaci T>=99,8 %@ 248 nm a T>=98,5 % @ 213 nm.
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 2020 |
Druh | Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek) |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Popis | Antireflexní vrstvy vyrobené kombinací vysokoindexového materiálu Al2O3 a nízkoindexového materiálu SiO2 splňující následující specifikace v hluboké ultrafialové oblasti, vrstva 1: T>=99,8 % @248 nm, vrstva 2: T>=98,5 % @213 nm |
Související projekty: |