Plasma enhanced CVD of hard DLC/SiOx coatings from methane and hexamethyldisiloxane

• Název česky: Plazmochemická depozice tvrdých DLC/SiOx vrstev z metanu a hexametyldisiloxanu
• Autoři: ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; VALTR Miroslav; PEŘINA Vratislav; MACKOVÁ Anna; HOUDKOVÁ Jana
• Rok publikování: 2005
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: 17th International Symposium on Plasma Chemistry
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: DLC; PECVD; Hexamethyldisiloxane; RF discharge; RBS; ERD
• Popis: V tomto článku jsou ukázány některé nové výsledky získané při studiu depozice a vlastností již dříve studovaných DLC/SiOx vrstev připravených ze směsi CH4 a HMDSO. Tyto vrstvy jsou dále srovnávány s vrstvami připravenými ze směsi CH4/HMDSO/H2 za použití jiného generátoru. Je ukázáno, že podstatná nevýhoda DLC vrstev, tj. vysoké vnitřní pnutí, špatná tepelná stabilita a absorpce ve viditelné oblasti, mohou být eliminovány přidáním komponenty SiO2 do vrstev. Docházíme k závěru, že tato skutečnost je obecnou vlastností DLC/SiOx vrstev nezávisle na postupu přípravy i rozdílné struktuře. Nicméně konkrétní vlastnosti vrstev mohou být dále optimalizovány změnou depozičních podmínek, což je ukázáno na vyšší tvrdosti vrstev z CH4/HMDSO/H2 ve srovnání s CH4/HMDSO.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou