Thermoionic vacuum arc (TVA) deposited tungsten thin film characterization

• Název česky: Charakterizace wolframových tenkých vrstev deponovaných termoionický vakuovým obloukem (TVA)
• Autoři: VLADOIU R.; CIUPINA V.; LUNGU C.P.; BURŠÍKOVÁ Vilma; MUSA G.
• Rok publikování: 2006
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Journal of Optoelectronics and Advanced Materials
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Thermoionic vacuum arc (TVA); tungsten; thin film; characterization
• Popis: Charakterizace wolframových tenkých vrstev deponovaných termoionický vakuovým obloukem (TVA)

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek