Reactive magnetron sputtering - modelling of different target utilization in metallic and compound mode and situation when oxygen and hydrogen are added simultaneously

• Název česky: Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně
• Autoři: VAŠINA Petr; SCHMIDTOVÁ Tereza
• Rok publikování: 2009
• Druh: Konferenční abstrakty
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Popis: Reaktivní magnetronové naprašování - modelování různého využítí terče a situace když je kyslík a vodík připouštěn současně, sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev