Study on the properties of modified amorphous carbon thin films deposited by PECVD.

• Název česky: Studie o vlastnostech modifikovaného filmů amorfního uhlíku tenký uloženy PECVD.
• Autoři: STOICA Adrian; MOCANU Valentin; KADLEČÍKOVÁ Magdaléna; PEŘINA Vratislav; KLAPETEK Petr; FRANTA Daniel; NEČAS David; SLAVÍČEK Pavel; BURŠÍKOVÁ Vilma
• Rok publikování: 2010
• Druh: Konferenční abstrakty
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Popis: Amorfní hydrogenované uhlíkové (aC: H) vrstvy jsou často uloženy plazmou zvýšenou chemickou depozici (PECVD) procesy. Tato technologie je velmi slibné, protože má vysoký kontroly kvality filmu, jeho snadné integraci do stávající technologie, její nízké náklady, vysokou účinnost a reprodukovatelnost. Rádiových frekvencí PECVD techniky jsou přijímány jako nejpopulárnější laboratorní metoda k přípravě hydrogenovaných DLC filmů z uhlovodíkových předchůdce. Navíc, v posledních letech hydrogenovaných uhlíkových tenkých vrstev (HDLC) přilákaly zvýšenou pozornost vzhledem k jejich výjimečné fyzikální a chemické vlastnosti, které jsou slibné pro širokou škálu aplikací. Cílem této práce je charakterizovat a porovnat vlastnosti HDLC, stejně jako deuterovaný uhlíkových tenkých vrstev (DDLC) uloženy RF-PECVD z dvou různých směsí metan předchůdce / vodík (CH4/H2) a metan / deuterium (CH4/D2 ) na jedné krystalického křemíku, skla a polykarbonátu substrátů. Experimenty byly provedeny na stejné depozičních parametrů, mění se pouze směsi předchůdce plynu.mechanické zkoušky byly provedeny převážně za použití hloubková snímací odsazení metody. Jsme zaměřili svoji pozornost na následující vrstva vlastnosti: tvrdost, modul pružnosti, lomová houževnatost, film-substrát přilnavost.charakterizace tenkých vrstev povrchu bylo provedeno měření kontaktních úhlů a povrchových výpočet energie. Navíc jsme studovali vliv vnitřního napětí na odsazení reakcí na film-substrát. Složení vrstev bylo vyšetřován Rutherford backscattering (RBS) v kombinaci s pružným zpětným rázem Detekční analýzu (ERDA). Výsledky budou dokončeny do mikroskopie atomárních sil (AFM), skenovací elektronová mikroskopie (SEM) a optické studií (elipsometrie a spektrofotometrie měření) na daném vzorku. Ramanova spektroskopie je zaměstnán pohodlně studovat jevy v těchto materiálech na sub-mikro úrovni. Pokročilé diagnostiky plazmatu byly provedeny pomocí optické emisní spektroskopie (OES).