prof. RNDr. Ivan Ohlídal, DrSc.
vedoucí pracoviště – Optika tenkých vrstev a povrchů pevných látek
kancelář: pav. 06/01031
Kotlářská 267/2
611 37 Brno
telefon: | 549 49 6244 |
---|---|
e‑mail: |
sociální a akademické sítě: |
---|
Počet publikací: 202
2020
-
Spectroscopic ellipsometry of inhomogeneous thin films exhibiting thickness non-uniformity and transition layers
Optics Express, rok: 2020, ročník: 28, vydání: 1, DOI
2019
-
Approximate methods for the optical characterization of inhomogeneous thin films: Applications to silicon nitride films
Journal of Electrical Engineering, rok: 2019, ročník: 70, vydání: 7, DOI
-
Approximations of reflection and transmission coefficients of inhomogeneous thin films based on multiple-beam interference model
Thin Solid Films, rok: 2019, ročník: 692, vydání: 31 December 2019, DOI
-
Combination of spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry with including light scattering in the optical characterization of randomly rough silicon surfaces covered by native oxide layers
Surface Topography: Metrology and Properties, rok: 2019, ročník: 7, vydání: 4, DOI
-
Efficient method to calculate the optical quantities of multi-layer systems with randomly rough boundaries using the Rayleigh Rice theory
Physica Scripta, rok: 2019, ročník: 94, vydání: 4, DOI
-
Optical characterization of inhomogeneous thin films containing transition layers using the combined method of spectroscopic ellipsometry and spectroscopic reflectometry based on multiple-beam interference model
Journal of Vacuum Science and Technology B:Nanotechnology and Microelectronics, rok: 2019, ročník: 37, vydání: 6, DOI
-
Optical Characterization of Non-Stoichiometric Silicon Nitride Films Exhibiting Combined Defects
Coatings, rok: 2019, ročník: 9, vydání: 7, DOI
-
Optical properties of the crystalline silicon wafers described using the universal dispersion model
Journal of Vacuum Science & Technology B, rok: 2019, ročník: 37, vydání: 6, DOI
-
Temperature dependent dispersion models applicable in solid state physics
Journal of Electrical Engineering, rok: 2019, ročník: 70, vydání: 7, DOI
2018
-
Determination of thicknesses and temperatures of crystalline silicon wafers from optical measurements in the far infrared region
Journal of Applied Physics, rok: 2018, ročník: 123, vydání: 18, DOI