![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Low temperature temporal and spatial atomic layer deposition of TiO2 films
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 2015 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Journal of Vacuum Science & Technology A |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
www | http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/33/4/10.1116/1.4922588 |
Doi | http://dx.doi.org/10.1116/1.4922588 |
Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
Klíčová slova | ALD |
Popis | Titanium dioxide films were grown by atomic layer deposition (ALD) using titanium tetraisopropoxide as a titanium precursor and water, ozone, or oxygen plasma as coreactants. |
Související projekty: |