Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

• Autoři: SOUČEK Pavel; VAŠINA Petr; BURŠÍKOVÁ Vilma; ZÁBRANSKÝ Lukáš; BURŠÍK Jiří; PEŘINA Vratislav
• Rok publikování: 2016
• Druh: Konferenční abstrakty
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Popis: Current state-of- materials nowadays used as protective coatings such as TiN, TiAlN, c-BN etc. generally exhibit high hardness and high stiffness. These positive features are often accompanied by undesirable brittle deformation behaviour. To overcome this limitation a new generation of materials with high hardness coupled with moderate ductility is desired.

Související projekty

• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
• Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy