Informace o publikaci
Mirror effect in PECVD reactor and its explanation via MC-PIC computer simulation
| Název česky | Zrcadlový jev v PECVD reaktoru a jeho vysvětlení pomocí MC-PIC počitačové simulace |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2004 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Czechoslovak Journal of Physics |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | plasma-material interactions; Monte Carlo/Particle in Cell; plasma simulation; PECVD |
| Popis | Při studiu depozice tenkých vrstev pomocí metody PECVD byl pozorován tzv. zrcadlový jev. Zrcadlovým jevem myslíme to, že deponovaná vrstva na vrchní elektrodě odráží substrat na spodní elektrodě. Hrany obrazu nejsou zcela ostré. Tento jev jsem se snažili vzsvětli pomocí počitačových simulací, kde jako hlavní příčinu označujeme rozdílnost sekundární emise substrátů a dolní elektrody. Jako hlavní výsledek naších simulací uvádíme prostorové rozděleni sekundárních elektronů a iontů dopadajících na protější elektrodu. |