![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Structural changes of plasma deposited SiOxCyHz thin films attained by thermal annealing
Název česky | Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2004 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Czech. J. Phys. |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | Deposited films; plasma enhanced CVD; HMDSO; FTIR; RBS |
Popis | Strukturální změny vrstev SiOxCyHz připravených v plazmatu indukované zahříváním |
Související projekty: |