Informace o publikaci
AFM Study of Hydrocarbon Thin Films
| Název česky | AFM studie uhlíkových tenkých vrstev |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | WDS'05 Proceedings of Contributed Papers: Part II - Physics of Plasmas and Ionized Media (ed. J. Safrankova) |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | plasma;polymer;films;argon;acetylene;pecvd;pulsed;radio frequency;discharge;afm;rough boundary |
| Popis | V tomto článku je popsána AFM studie uhlíkových tenkých vrstev. Tenké vrstvy byly připraveny plazmochemickou depozicí z plynné fáze (PECVD) v pulzním režimu. Záměrem bylo zkoumat závislost povrchové drsnosti na trvání cyklu (duty cycle). AFM je přímá technika pro sledování povrchů vzorků. Z naměřených obrázků je možné vypočítat mnoho veličin charakterizujících povrch. Je ukázáno, že střední kvadratická odchylka výšek se zdá být kromě oblasti 10% až 15% nezávislá na trvání cyklu. Mimo tuto oblast se střední kvadratické odchylky pohybovaly v rozmezí od 6,3 do 14,8 nm, zatímco pro trvání cyklu 10% je to 96,3 nm a pro 15% 61,7 nm. Bohužel se měnila i doba depozice, která koresponduje s tlouštkami vrstev. Toto by mohl být důvod pro několikanásobně větší drsnost uvnitř oblasti. Bylo by potřeba dalšího studia problému. |