![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
High temperature investigations of Si/SiGe based cascade structures using x-ray scattering methods
Název česky | Vysokoteplotní studia kaskádových struktur na bázi Si/SiGe za použití metod rtg rozptylu |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2005 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | J. Phys. D: Appl. Phys. |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
Klíčová slova | X-ray reflectivity; SiGe; Annealing; Diffusion |
Popis | Teplotní stabilita SiGe/Si struktur byla studována pomocí rtg reflektivity během žíhání in-situ v okolí teplot 790C. |
Související projekty: |