Informace o publikaci
Optical Characterization of TiO2 Thin Films by the Combined Method of Spectroscopic Ellipsometry and Spectroscopic Photometry
| Název česky | Optická charakterizace tenkých vrstev TiO2 pomocí kombinované metody spektroskopické elipsometrie a spektroskopické fotometrie |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Vacuum |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | http://hydra.physics.muni.cz/~franta/bib/VAC80_159.html |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | TiO2 films; optical constants; ellipsometry; photometry |
| Popis | V článku jsou obsaženy výsledky týkající se optické charakterizace tenkých vrstev TiO2 připravených pomocí magnetronového naprašování na destičky ze skla K64. Spektrální závislosti indexu lomu a extinkčního koeficientu těchto TiO2 vrstev jsou uvedeny v spektrální oblasti 230 -1000 nm. Pro určení hodnot těchto optických konstant byla využita metoda založená na kombinaci víceúhlové spektroskopické elipsometrie a spektroskopické fotometrie využívající data propustnosti a odrazivosti měřené z obou stran vrstvy. Je použita metoda založená na využití Cauchy a Urbachovy formule spolu s metodou jednovlnovou. Je ukázáno, že studované vrstvy TiO2 jsou homogenní v indexu lomu a uniformní v tloušťce. Navíc jsou určeny hodnoty parametrů drsnosti horních rozhraní TiO2 vrstev. Dále je také ukázáno, že hodnota šířky zakázaného pásu vrstev odpovídá 400 nm, tj. 3.1 eV. |
| Související projekty: |