Informace o publikaci
Evidence of refractive index change in glass substrates induced by high-density reactive ion plating deposition of SiO2 films
| Název česky | Důkaz změny indexu lomu ve skleněných podložkách indukovanou deposicí SiO2 vrstev reaktivním plátováním s vysokou hustotou |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2005 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Applied Surface Science |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | ellipsometry; reflectometry; ion plating; SiO2/glass interface; change of refractive index; plasma-assisted deposition; Schott B270 |
| Popis | Reaktivní plátování s vysokou hustotou bylo použito pro pokrývání skla Schott B270 vrstvami SiO2. Optické vlastnosti vzorku byly rozsáhle studovány spektroskopickou elipsometrií, odrazivostí a propustností. Několik optických modelů bylo použito pro započtení strukturních defektů, tj. (1) gradientní profil indexu lomu v SiO2 vrstvě, (2) přechodová mezivrstva mezi SiO2 a sklem a (3) slabé změny v indexu lomu skla blízko rozhraní SiO2/sklo byly uvažovány. Poslední z nich obsahující zvýšení indexu lomu podložky vykazoval nejlepší korespondenci s experimentálními daty. |
| Související projekty: |