Zde se nacházíte:
Informace o publikaci
PtSi formation on silicon substrate
Název česky | Silicidace platiny na Si substrátu |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2004 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | 22nd European Crystallographic Meeting, Abstracts |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
Klíčová slova | PtSi; silicide; x-ray diffraction; |
Popis | Silicidace platiny na Si substrátu byla sledována metodou rtg difrakce při žíhání in-situ. Z kinetiky vzniku vrstev Pt2Si a PtSi byly za použití Kissingerovy analýzy určeny aktivační energie obou transformací. Bylo ukázáno, že silicidace je silně závislá na přítomnosti dusíku v atmosféře při žíhání. |
Související projekty: |