Carbon nanotubes deposition by plasma enhanced chemical vapor deposition

• Název česky: Depozice uhlíkových nanotrubek metodou depozice z plynné fáze s asistencí plazmatu
• Autoři: JAŠEK Ondřej; ELIÁŠ Marek; ZAJÍČKOVÁ Lenka; KUČEROVÁ Zuzana; KUDRLE Vít; MATĚJKOVÁ Jiřina; REK Antonín; BURŠÍK Jiří
• Rok publikování: 2006
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Proceedings Electronic devices and systems 2006 IMAPS CS International Conference
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: carbon nanotubes; plasma enhanced chemical vapor depostion; catalyst; electron microscopy
• Popis: Uhlíkové nanotrubky se díky svým vlastnostem dostaly do popředí zájmu v mnoha aplikačních oblastech. Pro mnohé aplikace je však stále potřeba vyvinout metody depozice umožňující co nejpřesnější kontrolu vlastností deponovaných nanotrubek a také jejich uspořádání popřípadě přesné umisťování. Metody depozice s plynné fáze (CVD) popřípadě také v plazmatu (PECVD) se jeví jako velmi slibné pro dosažení těchto cílů. V úvodní části stručně shrneme vlastnosti a popis struktury uhlíkových nanotrubek a uvedeme základní podmínky a postupy při depozici uhlíkových nanotrubek metodou PECVD. V druhé části se pak budeme stručně věnovat depozici uhlíkových nanotrubek ve dvou experimentech s odlišnými depozičními podmínkami(depozice za nízkého tlaku a depozice za atmosférického tlaku).

Související projekty

• Příprava uhlíkových mikro- a nanostruktur plazmovými technologiemi
• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek