![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Comparison of structure and mechanical properties of SiO2-like films deposited in O2/HMDSO pulsed and continuous plasmas
Název česky | Srovnání struktury SiO2-podobných vrstev deponovaných v pulzním a kontinuálním O2/HMDSO plazmatu |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2006 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Surface & coatings technology |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | SILICON DIOXIDE; COATINGS |
Popis | Srovnání struktury SiO2-podobných vrstev deponovaných v pulzním a kontinuálním O2/HMDSO plazmatu |
Související projekty: |