![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Nucleation and Precipitation of Interstitial Oxygen in Czochralski Silicon
Název česky | Nukleace a precipitace intersticiálního kyslíku v Czochralského křemíku |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2006 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | Proceedings of The Tenth Scientific and Business Conference SILICON 2006 |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
Klíčová slova | Nucleation; Precipitation; Interstitial oxygen; Silicon; Infrared absorption |
Popis | Ke studiu intersticiálního kyslíku a kyslíkových precipitátů v sérii vícestupňově žíhaných křemíkových vzorků jsme použili infračervenou absorpční spektroskopii. Převzali jsme Hamovu teorii difúzí řízené precipitace. Potom jsme mohli z úbytku koncentrace Oi během vysokoteplotního žíhání stanovit koncentraci kyslíkových precipitátů ve vzorcích. Pro naměření map reciprokého prostoru těchto vzorků jsme použili trojosou rtg difrakci s vysokým rozlišením. |
Související projekty: |