Informace o publikaci
Deposition of thin films at higher substrate temperatures in atmospheric pressure glow discharge
| Název česky | Depozice tenkých vrstev za vysších teplot substrátu v atmosférickém doutnavém výboji |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2006 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | 10th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | thin films; glow discharge; atmospheric pressure |
| Popis | Byly nadeponovány tenké organosilikonové vrstvy v atmosférickém doutnavém výboji. Plasma bylo zapáleno v dusíku s malou příměsí monomeru hexametyldisiloxanu (HMDSO). Aby byly dosaženy vyšší tvrdosri tenkých vrstev, byla teplota substrátu zvýšena až na 120 stupňů celsia. Homogenita tenkých vrstev byla zvýšena použitím pohyblivé horní elektrody. Pomocí měření elektrických veličin bylo ukázáno použití doutnavého režimu. Mechanické vlastnosti tenkých vrstev byly určeny indentačními technikami. Vrstvy byly transparentní ve viditelné oblasti spektra. |
| Související projekty: |