Deposition of protective coatings in rf organosilicon discharges

• Název česky: Depozice ochranných vrstev ve vysokofrekvenčních výbojích v parách organosilikonu
• Autoři: ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; KUČEROVÁ Zuzana; FRANTA Daniel; DVOŘÁK Pavel; ŠMÍD Radek; PEŘINA Vratislav; MACKOVÁ Anna
• Rok publikování: 2007
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Plasma Sources Science and Technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: CARBON-FILMS; GLOW-DISCHARGES; PLASMA; PECVD; POLYCARBONATE; SUBSTRATE
• Popis: Článek diskutuje depozici různých typů ochranných vrstev, organosilikonových plazmových polymerů, SiO2 vrstev a tvrdých uhlíkových diamantu podobných vrstev s obsahem SiOx (DLC:SiOx), ve vysokofrekvenčním kapacitně vázaném výboji s použitím hexametyldisiloxanu (HMDSO). Vrstvy připravené z HMDSO/CH4 a HMDSO/CH4/H2 směsí vykazovaly atraktivní vlastnosti DLC vrstev s částečným optlačením jejich některých nevýhod jako jsou absorpce ve viditelné oblasti a vysoké vnitřní pnutí.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou