![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3716855/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133667368190000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Organosilicon thin films deposited by plasma enhanced CVD: Thermal changes of chemical structure and mechanical properties
Název česky | Organosilikonové tenké vrstvy připravené metodou PECVD: termálně indukované změny chemické struktury a mechanických vlastností |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2007 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Journal of Physics and Chemistry of Solids |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | Thin films;Organometallic compounds;Plasma deposition;Infrared spectroscopy;Mechanical properties |
Popis | Tenké organosilikonové vrstvy a vrstvy oxidu křemíku byly deponovány ve v.f. kapacitně vázaném výboji ze směsi HMDSO s kyslíkem |
Související projekty: |