Organosilicon thin films deposited by plasma enhanced CVD: Thermal changes of chemical structure and mechanical properties

• Název česky: Organosilikonové tenké vrstvy připravené metodou PECVD: termálně indukované změny chemické struktury a mechanických vlastností
• Autoři: ZAJÍČKOVÁ Lenka; BURŠÍKOVÁ Vilma; KUČEROVÁ Zuzana; FRANCLOVÁ Jana; SŤAHEL Pavel; PEŘINA Vratislav; MACKOVÁ Anna
• Rok publikování: 2007
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Journal of Physics and Chemistry of Solids
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Thin films;Organometallic compounds;Plasma deposition;Infrared spectroscopy;Mechanical properties
• Popis: Tenké organosilikonové vrstvy a vrstvy oxidu křemíku byly deponovány ve v.f. kapacitně vázaném výboji ze směsi HMDSO s kyslíkem

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Příprava nových Si-O(N)-C materiálů plazmochemickou metodou