![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Photonic band-gap masks to enhance resolution and depth of focus
Název česky | Zlepšení rozlišení a hloubky ostrosti u fotolitografických masek pomocí fotonického zakázaného pásu |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2007 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Proceedings of SPIE |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Optika, masery a lasery |
Klíčová slova | lithographic mask; photonic band-gap |
Popis | Zlepšení rozlišení a hloubky ostrosti u fotolitografických masek pomocí fotonického zakázaného pásu |