![Jak na přijímačky](https://cdn.muni.cz/media/3633702/image_1.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Harmonic analysis of discharge voltages as a tool to control RF sputtering deposition process
Název česky | Kontrola reaktivního naprašování pomocí analýzy harmonických frekvencí napětí vf. výboje |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2008 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
www | http://www.escampig2008.csic.es/ |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | magnetron; reactive sputtering; plasma; discharge; higher harmonics; |
Popis | Kontrola reaktivního magnetronového naprašování pomocí měření základní a vyšších harmonických frekvencí výbojových napětí. |
Související projekty: |