![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density
Název česky | Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou hustotou proudu |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2008 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | reactive magnetron sputering; target; discharge current density; racetrack |
Popis | Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou hustotou proudu, sborník |
Související projekty: |