Modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density

• Název česky: Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou hustotou proudu
• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2008
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Book of Extended Abstracts of 2nd Central European Symposium on Plasma Chemistry
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: reactive magnetron sputering; target; discharge current density; racetrack
• Popis: Model reaktivního magnetronového naprašování s nerovnoměrnou hustotou proudu, sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev