![Studijní programy](https://cdn.muni.cz/media/3757910/studijni-programy-student-jde-chodbou-masarykova-univerzita.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133754493890000000&heightratio=0.5&width=278)
Zde se nacházíte:
Informace o publikaci
NUCLEATION AND PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF ULTRANANOCRYSTALLINE DIAMOND FILMS ON DIFFERENT SUBSTRATES
Název česky | Nukleace a růst ultrananokrystalických diamantových vrstev metodou PEVCD na různých substrátech |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2008 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | CESPC II Book Of Extended Abstracts |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | ultrananocrystalline diamond; PECVD; nucleation |
Popis | Ultrananokrystalické diamantové vrstvy byly připraveny v reaktoru ASTEX ze směsi metan vodík za pomoci nukleace metodou BEN. Mechanické vlastnosti byly zkoumány pomocí nanoidentace na přístroji FISHERSCOPE H100 XYp a morfologie vrstev byla zkoumána metodami AFM a SEM. |
Související projekty: |