![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Modeling of reactive magnetron sputtering deposition process - different target utilization, situation when O2 and H2 are added simultaneously
Název česky | Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2009 |
Druh | Konferenční abstrakty |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Popis | Modelování magnetronového naprašování - různé využití terče, situace s dvěma reaktivními plyny, sborník |
Související projekty: |