![Jak na přijímačky](https://cdn.muni.cz/media/3633702/image_1.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Behaviour of Hybrid PVD-PECVD in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering.
Název česky | Chování hybridního PVD-PECVD procesu ve srovnání s tradičním reaktivním magnetronovým naprašováním. |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2010 |
Druh | Konferenční abstrakty |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Popis | Behaviour of Hybrid PVD-PECVD Process in Comparison with Conventional Reactive Magnetron Sputtering. Modelling of hybrid PVD-PECVd process. |
Související projekty: |