Informace o publikaci
Monitoring of PVD, PECVD and etching plasmas using Fourier components of RF voltage
| Název česky | Monitoruvání PVD, PECVD a leptacích plazmových procesů pomocí Fourierových komponent vf. napětí |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2010 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Plasma Physics and Controlled Fusion |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| www | https://iopscience.iop.org/article/10.1088/0741-3335/52/12/124011 |
| Doi | http://dx.doi.org/10.1088/0741-3335/52/12/124011 |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | plasma; higher harmonic frequencies; capacitively coupled discharge; reactive magnetron sputtering; DLC |
| Popis | Fourierovy složky výbojového napětí a napětí nekompenzované sondy byly použity k monitorování dvou různých depozičních procesů. Byly testovány fyzikální důvody reakce Fourierových složek na přítomnost vrstvy. |
| Související projekty: |
|