Complex analysis of SiOxCyHz films deposited by an atmospheric pressure dielectric barrier discharge

• Název česky: Komplexní analýza SiOxCyHz vrstev deponovaných APDBD
• Autoři: SCHÄFER Jan; HORN Stefan; FOEST Rüdiger; BRANDENBURG Ronny; VAŠINA Petr; WELTMANN Klaus-Dieter
• Rok publikování: 2011
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Surface & Coatings Technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Doi: http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2011.03.124
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: SILVER NANOPARTICLES; PLASMA; JET
• Popis: SiOx vrstvy byly připraveny s využitím atmosférického DBD výboje z HMDSO a silanu. Byla provedena studie vlivu parametrů výboje na složení, mikrostrukturu a tloušťku vrstvy.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek