Plasma treatment of silicon surface by DCSBD

• Autoři: SKÁCELOVÁ Dana; SŤAHEL Pavel; HANIČINEC Martin; ČERNÁK Mirko
• Rok publikování: 2011
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Acta Technica CSAV
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Silicon surface plasma treatment DBD discharge AFM contact angle measurement
• Popis: This paper focuses on the plasma treatment of crystalline Si (100) surface. The plasma was generated by Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge (DCSBD) at atmospheric pressure using ambient atmosphere. Surface free energy of silicon was investigated by contact angle measurement and surface morphology was studied by Atomic force microscope. Plasma treatment increases the surface wettability and AFM measurements showed that the plasma influences also the surface roughness.

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Tvorba nano-vrstev a nano-povlaků na textiliích s využitím plazmových povrchových úprav za atmosférického tlaku