![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
X-RAY LAUE DIFFRACTION STUDY OF OXYGEN PRECIPITATES IN CZOCHRALSKI SILICON
Název česky | Studie kyslíkových precipitátů v Czochralského křemíku pomocí rtg Laueho dofrakce |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2011 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
Klíčová slova | Czochralski silicon; oxygen precipitates; x-ray Laue diffraction; statistical dynamical theory of diffraction |
Popis | V prezentovaném článku jsme studovali kyslíkové precipitáty pomocí rtg difrakce v Laueho geometrii. |
Související projekty: |