Go to main content | Go to main menu | Go to search

Project information
Výzkum a vývoj nových technologií výroby bipolárního tranzistoru s izolovaným hradlem (TIGBT)

Investor logo
Project Identification
TH01010419
Project Period
1/2015 - 12/2017
Investor / Pogramme / Project type
Technology Agency of the Czech Republic
  • EPSILON
MU Faculty or unit
Central European Institute of Technology
Cooperating Organization
Brno University of Technology
ON SEMICONDUCTOR CZECH REPUBLIC, s.r.o.
  • Responsible person Ing Adam Klimsza, Ph.D.

Výzkum a vývoj pokročilé substrátové desky se SOI strukturou pro použití v TIGBT technologii.
Výzkum a vývoj výrobního procesu technologie TIGBT pro redukci vodivostních a spínacích ztrát.
Výzkum a vývoj nové generace TIGBT pro náročné aplikace.
Na SOI substrátu připraveném ve výrobní lince CZ2 bude vyvíjen vyrobní postup aktivní stuktury TIGBT součástky s použitím stávajících zařízení dostupných ve výrobní lince polovodičů CZ4. Veškeré mezioperační kontroly v průběhu výrobního procesu budou provedeny na měřicích zařízeních, které jsou rovněž dostupné v CZ4. Během vývoje vzniknou na výrobních zařízeních nové operační recepty potřebné pro zpracování SOI substrátů a/nebo pro vytvoření aktivní struktury TIGBT se sníženou vstupní kapacitou. Měření elektrických parametrů dokončených součástek bude provedeno rovněž s použitím stávajících měřících zařízení dostupných na výrobní lince CZ4.
Analýzy kvality povrchu křemíkových desek budou provedeny s použitím AFM mikroskopu u partnera projektu (VUT).

Publications

Total number of publications: 4

2019

2016

2015

You are running an old browser version. We recommend updating your browser to its latest version.

More info

By clicking “Accept Cookies”, you agree to the storing of cookies on your device to enhance site navigation, analyze site usage, and assist in our marketing efforts. Cookie Settings

Necessary Only Accept Cookies