Modelling of Reactive Magnetron Sputtering with Focus on Changes in Target Utilization

• Authors: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr
• Year of publication: 2012
• Type: Article in Periodical
• Magazine / Source: Chemické listy
• MU Faculty or unit: Faculty of Science
• Field: Plasma physics
• Keywords: reactive magnetron sputtering; modelling; target utilization
• Description: The paper deals with modelling of reactive magnetron sputtering of titanium with focus on changes in target utilization.

Related projects

• Plazmochemické procesy a jejich technologické aplikace
• CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
• Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev