Informace o projektu
Studium ultratenkých multivrstev užitím fotoelektronové spektroskopie a optické reflexe rtg. záření

Předkládaný projekt navrhuje studium ultratenkých multivrstev s celkovou tloušťkou pod 10 nm pomocí komplementárního použití dvou nedestruktivních analytických metod, a to úhlově selektivní fotoelektronové spektroskopie (AR XPS) a optické reflexe rtg. záření (XRR). Zatímco XRR se stala populární metodou v analýze multivrstev, AR XPS nebyla dosud použita pro hloubkové profilování v této oblasti. Aby se zvýšilo hloubkové rozlišení AR XPS (což je potřebné pro analýzu multivrstev), bude použita pro dekonvoluci hloubkového profilu chem. složení metoda založená na principu maximální entropie analyzovaných dat. Tato metoda umožňuje získávat profily i z velmi slabých signálů a není omezena malým počtem prvků, jejichž profily chceme získat. Použitím těchto dvou analytických metod se může výrazně zvýšit přesnost analýzy. To platí zvláště v případě materiálů, jejichž atomy vzájemně chemicky reagují v oblasti rozhraní a tvoří složité chemické sloučeniny a struktury. V případě úspěšného zvládnutí tohoto