Informace o projektu
Pokročilé směry ve fyzice a chemii plazmatu
- Kód projektu
- GD202/03/H162
- Období řešení
- 1/2003 - 12/2007
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Doktorské granty
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
- Klíčová slova
- fyzika plazmatu, diagnostika plazmatu, plazmové modelování, vysokofrekvenční výboje, bariérové výboje, plazmové depozice, plazmová chemie
- Spolupracující organizace
-
Ústav fyziky plazmatu AV ČR, v. v. i.
- Odpovědná osoba RNDr. Jan Stöckel, CSc.
- Odpovědná osoba Prof. RNDr. Jana Šafránková, DrSc.
- Odpovědná osoba prof. RNDr. František Krčma, Ph.D.
- Odpovědná osoba prof. RNDr. Pavel Kubeš, CSc.
Projekt předpokládá koordinaci doktorského studia v oblasti fyzika a chemie plazmatu. Bude řešen v úzké spolupráci pěti universitních a jednoho akademického pracoviště. Tím vznikne rozsáhlá vědecká základna se dvěmi regionálními centry, která zajistíkval itní výchovu špičkových odborníků. Doktorský tým je složen ze zkušených specialistů a vynikajících pedagogů spolu s vybranými, v současné době nejlepšími, studenty doktorského studia. Projekt zajistí studentům širší vzdělání formou kvalitníchspolečných p řednášek z oboru i přednášek zaměřených obecněji. Společné semináře, organizované pravidelně dvakrát ročně prohloubí vzájemnou informovanost doktorského týmu a umožní studentům zvýšit kvalitu mluveného i psaného projevu. Vedení doktorskéhotýmu získá příl ežitost porovnat jednotlivé studenty a formovat směr jejich další práce.
Publikace
Počet publikací: 40
2005
-
Spectroscopic analysis of a pulsed magnetron discharge
Journal of Optoelectronics and Advanced Materials, rok: 2005, ročník: 7, vydání: 5
-
Study of High Power Pulsed Microwave Discharge Afterglow
Book of Contributed Papers of 15th Symphosium on Applications on Plasma Processes and 3rd EU-Japan Joint Symphosium on Plasma Processing, rok: 2005
-
Theoretical study of pulsed microwave discharge in nitrogen
Plasma Sources Sci. Technol., rok: 2005, ročník: 14, vydání: 4
-
Time resolved measurements of the N2-O2 afterglow
Abstracts of Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics VI, rok: 2005
2004
-
Comparison of the ionization efficiency of two ionized physical vapour deposition processes: magnetron discharge assisted by microwave plasma or radio-frequency plasma
Prosseding of Ninth International Conference on Plasma Surface Engineering, rok: 2004
-
Effect of Admixtures on Hydrogen Afterglow Plasma
WDS'04 Proceedings of contributed papers, part II - Physics of Plasmas and Ionized Media, rok: 2004
-
Fast dynamics of ionized species in high power pulsed magnetron discharge
Bulletin of the American Physical Society, Series II, Vol. 49, No. 5, rok: 2004
-
Simultaneous determination of N and O atom density in N2 - O2 plasma afterglow by NO titration
Proceeding of Seventeenth European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases, rok: 2004
-
Simultaneous measurement of N and O densities in plasma afterglow by means of NO titration
Plasma Sources Sci. Technol., rok: 2004, ročník: 13, vydání: 4
-
Temporal Evolution of the Distribution Function of Plasma Electrons
WDS'04 Proceedings of contributed papers, part II, rok: 2004