![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3716855/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133667368190000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o projektu
Vývoj a průmyslová aplikace nových supertvrdých nanokrystalických kompozitních otěruvzdorných ochranných vrstev
- Kód projektu
- ME 301
- Období řešení
- 11/1998 - 11/2002
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR
- Program KONTAKT (ME + MEB) (jen po projekty s počátkem řešení v roce 2010)
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Hlavní cíl výzkumu a vývoje, který směřuje k průmyslové výrobě nových supertvrdých vrstev, vyžaduje široce zaměřený výzkum celé řady vědeckých a technických problémů, které nemůže SHM Šumperk (finální výrobce) provést dostatečně rychle sám. Hlavníproblém, kterí musí SHM řešit s ohledem na již existující vrstvy (TiAlSi)N je zlepšení reprodukovatelnosti výrobního procesu pomocí vývoje a zavedení vhodné dignostiky a řízení procesu. Druhý problém zahrnuje zlepšení testování vrstev, což zahrnujeměření jejich tvrdosti, modulu pružnosti a pevnosti jako funkce teploty, jakož i standartní řezné zkoušky. Třetím hlavním problémem bude vývoj nových nanokompozitních systémů s lepšími vlastnostmi než mají vrstvy TiN/a-Si3N4 používané pro strojírenskénástroje pokryté karbidem a vyvinout pokud možno ještě lepší materiály.
Publikace
Počet publikací: 26
2000
-
HF-Plasma Pencil in Liquids
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 50, vydání: S3
-
Characterization of CNx/SiOy Films Prepared by the Inductively Coupled RF Discharge
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 2000, vydání: 50(S3)
-
Influence of admixtures on production rate of atomic nitrogen
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 50-S3, vydání: 50-S3
-
Optical diagnostics of inductively coupled RF discharge during deposition of nanocomposite CNx/SiOy films
Proceedings of 20th Summer School and International Symposium on the Physics of Ionized Gases, rok: 2000
-
Plasma Pencil - New Small Scale Source for Atmospheric Surface Modification
Czechoslovak Journal of Physics, rok: 2000, ročník: 50, vydání: S3
-
Plasmachemical Deposition of Thin Films
4th Czech-Russian Seminar on Electrophysical and Thermophysical Processes in Low-Temperature Plasma, rok: 2000