Informace o projektu
Studium procesů a aplikace plazmové tužky v kapalném prostředí
- Kód projektu
- GA202/00/D057
- Období řešení
- 1/2000 - 1/2003
- Investor / Programový rámec / typ projektu
-
Grantová agentura ČR
- Standardní projekty
- Fakulta / Pracoviště MU
-
Přírodovědecká fakulta
- Mgr. Miloš Klíma, Ph.D.
Vf plazma je stále více používáno jak ve výzkumu, tak i v technické praxi, zvláště v plazmochemii. Ve všech doposud známých případech je vf plazma generováno v plynném prostředí za sníženého nebo méně častěji za atmosférického tlaku. V současnosti byl vy vinut zcela nový typ vf výboje jednopólového, resp. dvoupólového charakteru hořícího z duté elektrody za atmosférického tlaku v plynu proudícím skrze tuto elektrodu při vf výkonu 10-500 W, a současně plazmochemické zařízení generující tento výboj, tzv. p lazmová tužka (patent CZ 286310). Předběžný výzkum ukázal, že výboj podobných vlastností (výrazně neizotermické plazma) lze budit plazmovou tužkou ss až vf energií nejen v plynném prostředí, ale také pod hladinou kapaliny, kde plazma hoří v bublinách pro udícího plynu a ve směsi par kapaliny. Tím vzniká zcela nový reakční systém obsahující kombinaci plazmatu, plynu, kapaliny popř. pevné látky. Pro posouzení možností a šíře aplikací plazmové tužky v kapalinách je nutné poznat základní procesy probíhající
Publikace
Počet publikací: 17
2002
-
Comparison of the barrier-torch discharge and torch discharge at atmospheric pressure
Czech. J. Phys., rok: 2002, ročník: 2002, vydání: 52
-
Diagnostics of barier torch discharge burning at atmospheric pressure
21st SPIG Contributed papers, rok: 2002
-
Electron concetration in atmospheric non-isotermal plasma jet
Czech. J. Phys., rok: 2002, ročník: 2002, vydání: 52
-
Underwater pulse electrical diaphragm discharges for surface treatment of fibrous polymeric materials
Czech. J. Phys., rok: 2002, ročník: 2002, vydání: 52
-
Vysokofrekvenční plazmová tužka s keramickou hlavicí pro plynné a kapalné prostředí
Rok: 2002
2001
-
Diagnostics of hf-plasma pencil in liquids
XIV Symposium on Physics of Switching Arc, rok: 2001
2000
-
Způsob vytváření fyzikálně a chemicky aktivního prostředí plazmovou tryskou a plazmová tryska
Vydavatel: Úřad průmyslového vlastnictví, stát vydání: Česká republika, číslo patentu: CZ 286310, rok: 2000