Zde se nacházíte:
Informace o publikaci
Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane for nanostructured SiO2-like films deposited by PECVD at atmospheric pressure
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 2016 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Surface and Coatings Technology |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Doi | http://dx.doi.org/10.1016/j.surfcoat.2015.09.047 |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane; Tetrakis(trimethylsiloxy)silane; Plasma jet; Silicon dioxide |
Přiložené soubory | |
Popis | We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a radiofrequency and a microwave plasma jets operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS). |
Související projekty: |