Informace o publikaci

Strain Engineering in Highly Mismatched SiGe/Si Heterostructures

Název česky Deformační inženýrství ve velmi nepřizpůsobených SiGe/Si Heterostrukturách
Autoři

ISA Fabio JUNG Arik SALVALAGLIO Marco DASILVA Yadira Arroyo Rojas MAROZAU Ivan MEDUŇA Mojmír BARGET Michael MARZEGALLI Anna ISELLA Giovanni ERNI Rolf PEZZOLI Fabio BONERA Emiliano NIEDERMANN Philippe SEREDA Olha GRONING Pierangelo MONTALENTI Francesco VON KAENEL Hans

Rok publikování 2017
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Materials Science in Semiconductor Processing
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
www http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S1369800116303201?via%3Dihub
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.mssp.2016.08.019
Obor Fyzika pevných látek a magnetismus
Klíčová slova Strain engineering; Dislocations; Elastic relaxation; Patterned substrates; SiGe
Popis V této práci předkládáme inovativní přístup k realizaci koherentních, vysoce nepřizpůsobených 3-rozměrných heterostruktur na substrátech vzorkovaných v měřítku mikrometru.

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info