Informace o publikaci

Controlling the plasmonic properties of titanium nitride thin films by radiofrequency substrate biasing in magnetron sputtering

Autoři

MASCARETTI Luca BARMAN Tapan MÜNZ Filip BRICCHI Beatrice Roberta

Rok publikování 2021
Druh Článek v odborném periodiku
Časopis / Zdroj Applied Surface Science
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Doi http://dx.doi.org/10.1016/j.apsusc.2021.149543
Klíčová slova Titanium nitride thin films,Magnetron sputtering,Plasmonics,Spectroscopic ellipsometry,Electrical resistivity
Popis We report the effect of radiofrequency (RF) substrate biasing during the sputtering process on the structural, optical and electrical properties of TiN films. We employ spectroscopic ellipsometry as a sensible characterization method and we show that a moderate RF power, despite reducing the grain size, allows to achieve optimal plasmonic quality factors and a low resistivity.

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info