![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O2 gas mixture
Autoři | |
---|---|
Rok publikování | 1995 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Acta Physica Univesitatis Comenianae |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Související projekty: |