Plasma enhanced chemical vapor deposition of silicon incorporated diamond-like carbon films

• Autoři: BURŠÍKOVÁ Vilma; ZAJÍČKOVÁ Lenka; DVOŘÁK Pavel; SUBEDI Deepak Prasad; JANČA Jan
• Rok publikování: 2000
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Abstracts of Invited Lecturers and Contributed Papers ,XVth Europhysics Conference on Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: PECVD; Diamond-like Carbon; Protective thin films; Silicon doping
• Popis: Deposition of diamond like films with an incorporation of silicon by plasma enhanced CVD technique from mixture of methane, argon and hexamethyldisiloxane (HMDSO). Study of the influence of the percentage of HMDSO in the mixture on film properties.

Související projekty

• Společné laboratoře pro aplikovanou fyziku plazmatu a plazmovou chemii na PřF a PedF MU, VA v Brně a ÚFP AV ČR v Praze
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek