Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

• Autoři: CHOUKOUROV A.; PIHOSH Y.; STELMASHUK V.; BIEDERMAN Hynek; SLAVÍNSKÁ D.; KORMUNDA M.; ZAJÍČKOVÁ Lenka
• Rok publikování: 2002
• Druh: Článek v odborném periodiku
• Časopis / Zdroj: Surface & coatings technology
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: Rf magnetron; sputtering; SiOx; plasma polymer films
• Popis: Rf sputtering of composite SiOx/plasma polymer films and their basic properties

Související projekty

• Plazmová depozice ochranných vrstev: charakterizace připravených vrstev a diagnostika užitého reaktivního plazmatu
• Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek