Informace o publikaci
IN-SITU INVESTIGATIONS OF SI AND GE INTERDIFFUSION IN SI CASCADE STRUCTURES
| Název česky | In-situ studie Si a Ge interdifuse v Si kaskádových strukturách |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2006 |
| Druh | Článek v odborném periodiku |
| Časopis / Zdroj | Materials Structure in Chemistry, Biology, Physics and Technology |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika pevných látek a magnetismus |
| Klíčová slova | x-ray diffraction; interdiffusion; SiGe |
| Popis | Studovali jsme sérii deformačně symetrizovaných struktur mnohonásobných kvantových jam vypěstovaných na Si0.25Ge0.25 a Si0.5Ge0.5 pseudosubstrátech. Obsah Ge v těchto strukturách byl 30% a 80% s periodami multivrstev v rozsahu od 6 do 13 nm. Reciproké mapy rtg reflexe a difrakce pro všechny struktury byly zaznamenány za pokojové teploty a během žíhání. |
| Související projekty: |