Informace o publikaci
Some electrical properties of SiOxHyCz thin films prepared by PECVD
| Název česky | Některé elektrické vlastnosti SiOxHyCz tenkých vrstev vytvořených PECVD |
|---|---|
| Autoři | |
| Rok publikování | 2007 |
| Druh | Článek ve sborníku |
| Konference | New Trends in Physics |
| Fakulta / Pracoviště MU | |
| Citace | |
| Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
| Klíčová slova | Frenkel Poole effect conduction mechanisms PECVD |
| Popis | SiOxHyCz tenké vrstvy byly připravené plazmochemickou depozicí na skleněných substrátech při odlišných depozičních podmínek na skleněný substrát. Hliníkové elelktrody byly vakouvě napařené a jejich tloušťka byl a asi 100nm. V tomto sandwičovém uspořádání byly měřeny VA chararkteristiky. Z těcjto charakteristik lze usuzovat, že vodivostní mechanismus je Poole-Frenkelova vodivost. |
| Související projekty: |