![Jak na přijímačky](https://cdn.muni.cz/media/3633702/image_1.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Modeling of Radial Variation of Target Poisoning During Reactive Sputtering Deposition Process
Název česky | Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2008 |
Druh | Článek ve sborníku |
Konference | 19th Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases - Book of Abstracts |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | reactive magnetron sputering; target |
Popis | Modelování postupného otravování terče v průběhu reaktivního magnetronového naprašování, sborník, mezioborova studie fyzika plazmatu |
Související projekty: |