![Důležité termíny](https://cdn.muni.cz/media/3633704/image_2.jpg?mode=crop¢er=0.5,0.5&rnd=133572412150000000&heightratio=0.5&width=278)
Informace o publikaci
Advanced modeling of reactive sputtering process with non-linear discharge current density
Název česky | Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu |
---|---|
Autoři | |
Rok publikování | 2008 |
Druh | Článek v odborném periodiku |
Časopis / Zdroj | Chemické Listy |
Fakulta / Pracoviště MU | |
Citace | |
Obor | Fyzika plazmatu a výboje v plynech |
Klíčová slova | reactive magnetron sputtering |
Popis | Pokročilý model reaktivního magnetronového naprašování zahrnující nerovnoměrnou proudovou hustotu, článek, mezioborova studie |
Související projekty: |