Modelling of surface processes taking place during reactive magnetron sputtering deposition process with simultaneous adding of hydrogen and oxygen

• Název česky: Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku
• Autoři: SCHMIDTOVÁ Tereza; VAŠINA Petr
• Rok publikování: 2009
• Druh: Článek ve sborníku
• Konference: Book of Abstracts, Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics 8
• Fakulta / Pracoviště MU: Přírodovědecká fakulta
• Obor: Fyzika plazmatu a výboje v plynech
• Klíčová slova: modelling; magnetron
• Popis: Modelování magnetronového naprašování v dusiku a vodíku, sborník

Související projekty

• Studium a aplikace plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
• Studium chování hybridního depozičního procesu a jeho využití pro přípravu tenkých vrstev